応用物理学会
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第23回応用物理学会論文賞(2001年度)受賞者


応用物理学会論文賞委員会 委員長 後藤 俊夫

本会は、会誌“応用物理”の本年の1、2、3月号で第23回(2001年度)応用物理学会論文賞の受賞候補者の公募を行い、3月23日に締め切った。本年度はJJAP論文賞候補22件、JJAP論文奨励賞候補19件、解説論文賞候補16件の推薦があった。各論文について、おのおの3名以上による査読と、その結果に基づく第一次選考がなされ、さらに論文賞委員の投票により第二次選考の結果、下記の論文の著者が理事会に推薦され、下記に記載の方々に論文賞を贈呈することが決定された。論文賞の授賞式は来る9月11日に秋季学術講演会(愛知工業大学)における評議会の席上において行われ、受賞記念講演は、9月12〜13日の講演会期中にそれぞれ関連ある分科会場で行われる予定である。

(注)御所属は受賞論文執筆当時のものです.

JJAP論文賞

受賞者: 梁瀬 直子(東芝)・阿部 和秀(東芝)・福島 伸(東芝)・川久保 隆(東芝)
論文タイトル: Thickness Dependence of Ferroelectricity in Heteroepitaxial BaTiO3 Thin Film Capacitors
著者: Naoko Yanase, Kazuhide Abe, Noburu Fukushima, Takashi Kawakubo
掲載号: Jpn. J. Appl. Phys. Vol.38 (1999) Pt.1 No.9B pp.5305-5308


JJAP論文奨励賞

受賞者: 石井 雄三(NTT)
論文タイトル: Ink-Jet Fabrication of Polymer Microlens for Optical-I/O Chip Packaging
著者: Yuzo Ishii, Shinji Koike, Yoshimitsu Arai, Yasuhiro Ando
掲載号: Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.1 No.3B pp.1490-1493

受賞者: 河村 賢一(科学技術振興事業団)
論文タイトル: Holographic Encoding of Permanent Gratings Embedded in Diamond by Two Beam Interference of a Single Femtosecond Near-Infrared Laser Pulse
著者: Ken-ichi Kawamura, Nobuhiko Sarukura, Masahiro Hirano, Hideo Hosono
掲載号: Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.2 No.8A pp.L767-L769 EXP

受賞者: 渡邊 幸志(電総研)
論文タイトル: Nonlinear Effects Excitonic Emission from High Quality Homoepitaxial Diamond Films
著者: Hideyuki Watanabe, Hideyo Okushi
掲載号: Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.2 No.8B pp.L835-L837 EXP

受賞者: 末益 崇(筑波大)
論文タイトル: Room Temperature 1.6μm Electroluminescence from a Si-Based Light Emitting Diode with β-FeSi2 Active Region
著者: Takashi Suemasu, Yoichiro Negishi, Ken'ichiro Takakura, Fumio Hasegawa
掲載号: Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.2 No.10B pp.L1013-L1015 EXP

受賞者: 舟橋 良次(大阪工技研)
論文タイトル: An Oxide Single Crystal with High Thermoelectric Performance in Air
著者: Ryoji Funahashi, Ichiro Matsubara, Hiroshi Ikuta, Tsunehiro Takeuchi, Uichiro Mizutani, Satoshi Sodeoka
掲載号: Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.2 No.11B pp.L1127-L1129 EXP


解説論文賞

受賞者: 寒川 誠二(NEC)・Vincent M.Donnelly(Bell Laboratories)・Mikhail V.Malyshev(Bell Laboratories)
論文タイトル: Effects of Discharge Frequency in Plasma Etching and Ultrahigh-Frequency Plasma Source for High-Performance Etching for Ultralarge-Scale Integrated Circuits
掲載号: Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.1 No.4A pp.1583-1596

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