シンポジウム

スピントロニクスデバイスの新展開

3月18日 13:00~18:00  会場:6号-ZJ

18p-ZJ - 1~10

  • 1スピントロニクスデバイスの新展開:イントロダクトリートーク(15分)産総研1,東芝2,京大3 安藤功兒1,湯浅裕美2,小野輝男3
  • 2 HDD高密度化のためのマイクロ波アシスト磁化反転技術(30分)日立 五十嵐万壽和,鈴木良夫,佐藤 陽
  • 3 HDD高密度化のための電流狭窄再生ヘッド技術(30分)東芝研究開発センター 福澤英明,湯浅裕美,原 通子,藤 慶彦,村上修一
  • 4ギガビット級大容量MRAM技術(30分)東芝 研究開発センター1,産総研 エレクトロニクス研究部門2,阪大 基礎工3,東北大 WPI-AIMR4,電通大 情報工5,東北大 応物6 與田博明1,岸 達也1,永瀬俊彦1,吉川将寿1,北川英二1,大坊忠臣1,西山勝哉1,甲斐 正1,中山昌彦1,相川尚徳1,下村尚治1,天野 実1,高橋茂樹1,池川純夫1,柳 暁志1,長嶺 真1,小瀬木淳一1,薬師寺啓2,湯浅新治2,鈴木義茂3,水上成美4,仲谷栄伸5,安藤康夫6,大兼幹彦6,宮崎照宣4,安藤功兒2
  • 5 スピントルク磁壁移動と高速MRAMへの応用(30分)NECデバプラ研 鈴木哲広,深見俊輔,大嶋則和,永原聖万,三浦貞彦,石綿延行,杉林直彦
  •  休憩 15:15~15:30
  • 6 MTJ素子を用いた不揮発性論理回路とその応用(30分)東北大通研 羽生貴弘,松永翔雲,夏井雅典
  • 7 高ドープSiにおけるスピン伝導特性(30分)TDK1,AIT2,阪大院基礎工3 及川 亨1,鈴木淑男2,佐々木智生1,白石誠司3,鈴木義茂3,野口 潔1
  • 8 強磁性半導体GaMnAsへテロ構造におけるスピン依存伝導(30分)東大工1,科技機構さきがけ2 大矢 忍1,2,宗田伊理也1,ナムハイ ファム1,高田健太1,田中雅明1
  • 9 電界誘起磁化反転(30分)阪大基礎工1,PRESTO-JST2,CREST-JST3 鈴木義茂1,3,野崎隆行1,2,塩田陽一1,丸山拓人1,白石誠司1,新庄輝也1
  • 10 MgO二重障壁強磁性トンネル接合における巨大磁気抵抗効果(30分)東北大工 安藤康夫,Lixian Jiang,永沼 博,大兼幹彦