15. 結晶工学

19p-TW - 1～12

• 1分子線交互供給によるCdSe量子ドット多層構造の形成岡理大理 ^○晩田雄斗，大石正和，斉藤　博，米田　稔
• 2 分子線エピタキシー法によるNおよびAg添加ZnSの作製と評価鳥取大工 ^○田中裕隆，小谷明生，黒柳琢真，木下　直，市野邦男
• 3 有機-無機(ワイドギャップ)半導体ハイブリッド構造による高感度・紫外ＡＰＤの開発鳥取大工 ^○（M2）稲垣雄介，谷　達矢，野村まり，田中　健，大槻真史，阿部友紀，笠田洋文，安東孝止
• 4 MBE-ZnSeTe混晶の高濃度Teドープ道工大 ^○高橋和也，一戸善弘，本間一臣，今井和明，鈴木和彦
• 5 ZnMgTe/ZnTe導波路構造の作製と低転位化への検討早大電生¹，早大材研^{2 ○}今田将太¹，馬場俊彰¹，太田匠哉¹，熊谷裕輝¹，木原大真¹，小林正和^1,2
• 6 X線回折を用いたSi(110)基板上のZnTeエピタキシャル膜の双晶ドメイン方位解析リガク¹，早大・電生²，早大・材研^{3 ○}小林信太郎¹，稲葉克彦¹，紺谷貴之¹，久保富活¹，櫻澤　翔²，馬場俊彰²，今田将太²，小林正和^2,3
• 7 MOVPE法による大面積CdTeX線・γ線画像検出器に関する研究(VIII)　～Si基板上の厚膜CdTe層高品質化の検討～名工大院工 ^○（M1）小川博久，岡　寛樹，加藤大裕，仲島　甫，中西智哉，松本和也，米山知宏，安形保則，マダン ニラウラ，安田和人，江川　鍛，後藤達彦，土用下尚外，福田浩幸
•  休憩　15:45～16:00
• 8 ナノインプリントを利用したZnOナノワイヤパターン成長九大シス情 ^○遠矢和勇騎，久米田章夫，松本隆文，中村大輔，東畠三洋，浅野種正，岡田龍雄
• 9 ZnO薄膜における励起子遷移エネルギーの電界シフト鳥取大工 ^○（M1）藤沼　諒，佐藤耕輔，小銭洋輝，阿部友紀，笠田洋文，安東孝止
• 10 ZnOの面極性と光電流の過渡応答.3秋田県大 ^○（M1）石塚庸介，山口博之，小宮山崇夫，長南安紀，青山　隆
• 11 電子線照射ZnOバルク単結晶の熱刺激電流 : 二段階光照射効果法大工¹，大阪教育大²，京大原子炉^{3 ○}尾賀孝宏¹，井澤佑介¹，栗山一男¹，串田一雅²，Q. Xu³
• 12 炭素イオン注入ZnOバルク単結晶のイオンチャネリング/核反応分析：低抵抗化の起源法大工¹，大阪教育大²，産総研^{3 ○}井澤佑介¹，松本孝治¹，尾賀孝宏¹，栗山一男¹，串田一雅²，木野村淳³