7. ビーム応用

19p-ZA - 1～11

• 1高輝度電界電離型希ガスイオン源の開発（VI）三重大院工¹，三重大極限ナノエレセ²，SIINT³，産総研^{4 ○}杉山安彦^1,2,3，小林祐介¹，森川由基¹，梶原和夫^1,2，岡山重夫⁴，畑　浩一^1,2
• 2 電界誘起酸素エッチング法による電界電離型希ガスイオンエミッタの作製三重大院工¹，三重大極限ナノエレセ²，エスアイアイ・ナノテクノロジー³，産総研^{4 ○（P）}劉　華栄^1,2，小林祐介^1,2，森川由基^1,2，杉山安彦^1,2,3，梶原和夫^1,2，畑　浩一^1,2，岡山重夫⁴
• 3 有機液体を用いた炭素系多原子分子イオン源の開発京大院工光・電子理工学センター ^○竹内光明，龍頭啓充，高岡義寛
• 4 自己整合型四極子収差補正レンズによるイオンビーム集束産総研¹，ＳＩＩＮＴ²，三重大^{3 ○}岡山重夫¹，杉山安彦²，金丸正剛¹，畑　浩一³
• 5 小型三次元中エネルギーイオン散乱分光装置の開発理研¹，大阪大工^{2 ○}戸田新之輔^1,2，小林　峰¹，Roch Andrzejewski¹，上野修平^1,2，桑原裕司^1,2
• 6 中エネルギーイオン散乱スペクトルの多重散乱補正コベルコ科研¹，京大工^{2 ○}笹川　薫^1,2，中嶋　薫²，鈴木基史²，木村健二²
•  休憩　15:30～15:45
• 7 イオンビームによる高分子表面の突起生成とその位置制御東大院工¹，理研^{2 ○（D）}喜多村茜^1,2，小林知洋²，佐々木一哉¹，鈴木晶大¹，寺井隆幸¹
• 8 イオン照射法によるGeナノ構造体の形成と電界放出特性名工大・院工¹，名大・量子^{2 ○}宮脇亜子¹，ユソプ ザムリ¹，林　　灯¹，林　靖彦¹，種村眞幸¹，徳永智春²
• 9 高分解能RBS法の検出器系におけるバックグラウンド・ノイズ低減京大院工 ^○橋元弘貴，中嶋　薫，鈴木基史，木村健二
• 10 高速重イオンビームをプローブとする低真空SIMSの開発京大工¹，JST-CREST²，日本電子^{3 ○}若松慶信¹，山田英丙¹，二宮　啓^1,2，瀬木利夫^1,2，青木学聡^1,2，田村　淳³，松尾二郎^1,2
• 11 ヘリウムビームを用いたTOF-ERDA測定の深さ分解能の評価若狭湾エネ研¹，豊田中研^{2 ○}安田啓介¹，石神龍哉¹，Batchuluun Chuluunbaatar¹，日比章五²

20a-ZA - 1～11

• 1高輝度Arクラスターイオンビーム装置の開発京大工¹，JST-CREST^{2 ○（M1）}山野邉貴文¹，山本恭千¹，市木和弥¹，二宮　啓¹，瀬木利夫^1,2，青木学聡^1,2，松尾二郎^1,2
• 2 大電流密度ガスクラスターイオンビームのサイズ選別照射V京大工¹，JST-CREST^{2 ○}市木和弥¹，二宮　啓^1,2，瀬木利夫^1,2，青木学総^1,2，松尾二郎^1,2
• 3 Arクラスターイオン衝撃で生成される二次イオンの脱出深さの評価京大工¹，JST-CREST^{2 ○（P）}二宮　啓^1,2，市木和弥¹，山田英丙¹，瀬木利夫^1,2，青木学聡^1,2，松尾二郎^1,2
• 4 水クラスターイオン照射によるシリコン基板のスパッタリング京大院工 光・電子理工学教育センター ^○市橋　岳，龍頭啓充，竹内光明，高岡義寛
• 5 サイズ選別窒素クラスターイオンによる低損傷加工兵庫県立大院工　インキュベーションセンター ^○間下喬史，豊田紀章，山田　公
• 6 多原子分子クラスターイオン照射痕のAFM観察京大院工光・電子理工学センター ^○久保雄大，糸崎俊介，龍頭啓充，竹内光明，高岡義寛
•  休憩　10:30～10:45
• 7 エタノールクラスターイオン照射によるシリコン基板のパターニング京大院工光・電子理工学センター ^○向井　寛，龍頭啓充，竹内光明，高岡義寛
• 8 エタノールクラスターイオンビームの高分子基板への表面照射効果京大院工光・電子理工学センター ^○糸崎俊介，久保雄大，龍頭啓充，竹内光明，高岡義寛
• 9 GCIB照射された有機材料のIn-situ XPS測定による評価兵庫県立大工学研究科 ^○豊田紀章，中桐基裕，山田　公
• 10 Arクラスター照射したポリマー試料の表面損傷評価京大工¹，JST-CREST^{2 ○}山本恭千¹，市木和弥¹，二宮　啓^1,2，瀬木利夫^1,2，青木学聡^1,2，松尾二郎^1,2
• 11 アルゴンクラスターSIMSによるインスリン薄膜の計測兵庫県大院工 ^○大嶋渉平，盛谷浩右，柏原一平，乾　徳夫，持地広造
•  昼食　12:00～13:00

20p-ZA - 1～7

• 1 水クラスターイオン照射によるシリコーンゴム上での間葉系幹細胞のパターン接着京大 光・電子理工センター¹，京大院工^{2 ○}Piyanuch Sommani¹，市橋　岳¹，龍頭啓充¹，辻　博司²，後藤康仁²，高岡義寛¹
• 2 ガスクラスターイオンビーム援用蒸着法によるナノ構造の埋め込み形成兵県大院工インキュベーションセンター ^○廣田智一，豊田　紀，山田　公
• 3 1価イオン及び多価イオンによる表面改質効果神戸大院物理¹，神戸大院化学²，情報通信研究機構^{3 ○（M2）}朝倉　憲¹，櫻井　誠¹，戸名正英²，照井通文³，劉　盛進¹，飯田直幸¹，森脇信秀¹，吉田佳代¹，益子信郎³
• 4 潜トラックのエッチングで生じるナノ孔のサイズの決定要因早大先進理工¹，産総研²，筑波大^{3 ○}野村健一¹，大木義路¹，藤巻　真²，王　暁民^1,2，粟津浩一²，小松原哲郎³
• 5 ゲルマニウム多重注入した熱酸化シリコン薄膜からのEL発光京都大院工¹，中部大学工^{2 ○}木下翔平¹，辻　博司¹，洗　暢俊¹，服部真史¹，後藤康仁¹，石川順三²
• 6 Fe、Auイオン共注入Al₂O₃のレーザー光照射効果法大工¹，久留米工大²，東大³，島根大⁴，東京都市大^{5 ○}坂本　勲¹，林　伸行²，高田純一¹，石田智也¹，野村貴美³，本多茂男⁴，田代博之²，鳥山　保⁵
• 7 イオン注入熱酸化法によるZnO ナノ粒子の蛍光表示管への応用物材機構量子ビームセ¹，双葉電子工業^{2 ○}雨倉　宏¹，佐藤義孝²，岸本直樹¹