シンポジウム

16p-ZE - 1〜9


• 1イントロダクトリー・トーク（10分）東大院工 ^○高木信一
• 2シリコンナノエレクトロニクスの新展開：ポストスケーリングテクノロジー（50分）名大院工 ^○財満鎭明
• 3ITNWシステムの観点から見たULSI技術の将来展望（35分）NEC　情報メディア研 ^○望月康則
• 4ポストスケーリング時代ULSI技術の展望（35分）東芝研究開発センター ^○西山　彰
•  休憩　15:10〜15:25
• 5ナノ構造界面制御の課題（35分）名大院工 ^○宮崎誠一
• 6ナノ界面科学の課題（30分）千葉大理 ^○中山隆史
• 7CMOSの限界と将来のBeyond CMOSへの課題（35分）筑波大院数物 ^○白石賢二
• 8構造融合・機能融合によるｼﾘｺﾝﾃｸﾉﾛｼﾞｰの新展開（30分）東北大 ^○遠藤哲郎
• 9まとめ、企業からみた大学への期待（20分）富士通研究所 ^○横山直樹