15. 結晶工学

15.7 エピタキシーの基礎

9月14日 会場:工学1-ZQ
ショートプレゼンテーション(5分)10:30〜11:30
ポスター掲示時間13:00〜15:00

14a-ZQ - 1〜12

  • 1InP(111)A面上における双晶形成過程に対する理論的研究三重大院工 山下智樹,秋山 亨,中村浩次,伊藤智徳
  • 2第一原理によるInNの電子の有効質量の計算東理大工 和田哲也,佐野雅敏
  • 3GaAs(001)基板上のInAs表面上のIn吸着原子の振る舞いに対する量子論的アプローチ三重大院工 小笠原孝介,秋山 亨,中村浩次,伊藤智徳
  • 4GaAs基板上InAs(111)A表面に関する理論的検討三重大院工 伊藤智徳,石牟禮直生,秋山 亨,中村浩次
  • 5InGaAs(001)表面再配列構造とHfO2/InGaAs 界面特性物材機構1,産総研2 大竹晃浩1,宮田典幸2,卜部友二2,安田哲二2
  • 6X線スペックル散乱を用いたエピタキシャル成長中の構造ゆらぎの解析原子力機構 高橋正光
  • 7(100)GaAsスターパターン基板上へのGaAs選択成長静岡大電子研 Mouleeswaran Deivasigamani,小山忠信,田中 昭,早川泰弘
  • 8有機金属塗布熱分解法を用いたITO薄膜の作製と評価龍大 景山 豪,野中俊宏,山本伸一
  • 9温度差法LPEを用いたGaAs(001)マイクロチャンネルエピタキシーのための成長条件の検討名城大理工 小島春輝,佐藤秀治郎,風間正志,成塚重弥,丸山隆浩
  • 10白色LED用CN薄膜の合成と評価龍谷大1,津山高専2 佐竹聖樹1,岸本慎平2,伊藤國雄2,山本伸一1
  • 11高密度InAs量子ドットのSb照射成長中断における時間分解X線回折測定(3)電通大電子1,物材機構(東大先端研)2,原子力機構3 山本和輝1,角田直輝1,海津利行2,高橋正光3,藤川誠司3,山口浩一1
  • 12InAsウェッティング層表面超構造ドメインと量子ドット生成パターンの統計的解析阿南高専 小西智也,塚本史郎