14. 半導体B(探索的材料・物性・デバイス)

14.2 超薄膜・量子ナノ構造

9月14日 9:15〜18:00  会場:教育-NC

14a-NC - 1〜12

  • 1Si/SiGe系2DEGのPdショットゲート制御による結合量子ドットの作製東工大量子ナノエレ研セ1,東大工2,東京都市大総研3 福岡佑二1,小寺哲夫1,大塚朋廣2,武田健太2,小幡利顕2,吉田勝治2,澤野憲太郎3,内田 建1,白木靖寛3,樽茶清悟2,小田俊理1
  • 2Ge/Si量子ドットにおける高密度励起ダイナミクス京大化研1,JSTさきがけ2,東大総合3 太野垣健1,2,深津 晋3,金光義彦1
  • 3Stabilization and Tuning of Silicon Nanocrystals Properties by DC microplasma and Laser Processing in Liquid MediaAIST Vladimir Svrcek
  • 4Siナノ結晶集合体の光伝導特性甲南大理工1,関西大システム理工2 寺嶋 秀1,小泉亮太1,稲田 貢2,齊藤 正2,梅津郁朗1,杉村 陽1
  • 5半導体ナノワイヤでの双晶面超格子におけるバンド配列のナノワイヤ径依存性三重大院工 秋山 亨,山下智樹,中村浩次,伊藤智徳
  • 6VLS法を用いて作製した(311)B及び(001)基板上三角形及び梯形断面形状を持つ横方向GaAsナノワイヤNTT物性基礎研 章 国強,舘野功太,後藤秀樹,寒川哲臣
  •  休憩 10:45〜11:00
  • 7InAsP量子ドット/InPナノワイヤのヘテロ界面の状態NTT物性基礎研 舘野功太,Guoqiang Zhang,後藤秀樹,寒川哲臣
  • 8AFM陽極酸化によるダッシュパターンを用いたInAs量子ナノ構造のMBE成長東大生産研1,東大ナノ量子機構2,CREST-JST3 堀内 功1,車 圭晩1,柴田憲治1,平川一彦1,2,3
  • 9単一半導体量子リングにおけるサブバンド間多極放射確率帝京大理工1,豊田工大2 近藤直樹1,榊 裕之2
  • 10高密度磁気記録のためのブロック共重合体による自己組織化10nmナノドット形成群大院工1,東芝2 ○(M1)Huda Miftakhul1,赤羽隆志1,田村拓郎1,尹  友1,保坂純男1,木原尚子2,鎌田芳幸2,喜々津哲2
  • 11高密度パターンドメディアのための電子線描画ポスト格子とガイドラインによる自己組織化パターンの規則配列制御群馬大院工学研究科1,東芝2 ○(M1)赤羽隆志1,Huda Mifutakhul1,田村拓郎1,尹  友1,保坂純男1,木原尚子2,鎌田芳幸2,喜々津哲2
  • 12Au25超クラスターの高次バンドの吸収による励起発光スペクトル甲南大理工1,関西大システム理工2,関西大化学生命工3 坂永 勇1,松末和憲1,稲田 貢2,齊藤 正2,川崎英也3,岩崎泰彦3,梅津郁朗1,杉村 陽1
  •  昼食 12:30〜13:30

14p-NC - 1〜17

  • 1Development of a Defect-Free GaAs/AlGaAs Heterostructure Etching Process by Chlorine and Argon Mix Neutral Beam東北大流体研1,CREST2,東北大通研3,北大情報科学4 王 宣又1, 2,黄 啓賢1, 2,大野裕三2, 3,五十嵐誠1, 2,村山明宏2, 4,寒川誠二1, 2
  • 2誘電体ファーストプロセスによるInGaAs ナノワイヤMISFET の作製と評価北大情報科学1,北大量集センター2,JST-PRESTO3 小橋義典1,佐藤拓也1,2,冨岡克広2,3,原真二郎1,2,福井孝志1,2,本久順一1
  • 3縦型pinダイオードに埋め込まれた単一量子ドット発光のゲート制御東大生研1,東大ナノ量子機構2,上智大理工3 田村悠悟1,中岡俊裕1,3,宮澤俊之2,渡邉克之2,太田泰友1,2,岩本 敏1,2,荒川泰彦1,2
  • 4高In組成InGaAs/GaAs量子井戸のスピン緩和II早大理工1,SINANO-CAS2,I.S.-CAS3 浅見健志1,牛見健則1,中田大海1,Shulong Lu2,Zhichuan Niu3,竹内 淳1
  • 5時間分解ポンププローブ反射計測によるGaInNAs/GaAs多重量子井戸のスピン緩和の観測早大理工1,SINANO-CAS2,I. S. -CAS3 中田大海1,浅見健志1,牛見健則1,Shulong Lu2,Lifeng Bian2,Zhichuan Niu3,竹内 淳1
  • 6シリコン結合量子ドットにおけるスピン効果の観測東工大量子ナノエレ研セ1,東大ナノ量子機構2,東工大院理工3 小寺哲夫1,2,山端元音1,蒲原知宏1,内田 建3,小田俊理1
  • 7Si量子ナノディスク2次元アレイ構造の電気特性の構造による制御東北大流体研1,九工大2,JST-CREST3 五十嵐誠1, 3,黄 啓賢1, 3,王 宣又1, 3,ビンブディマン モハマドファイルズ1, 3,森江 隆2,寒川誠二1, 3
  • 8シリコン(Si)ナノディスク2次元アレイによる高効率光吸収とバンドギャップエネルギー制御の実現東北大流体研1,奈良先端大2,東大先端科技研3,JST-CREST4 ビンブディマン モハマドファイルズ1,黄 啓賢1, 4,王 宣又1, 4,海津利行3, 4,五十嵐誠1, 4,大島隆治3, 4,岡田至崇3, 4,山下一郎2, 4,寒川誠二1, 4
  • 9CdTe/ZnTe量子ドットのドット内準位励起による時間分解フォトルミネッセンス早大1,漢陽大2,延世大3 貫井貴夫1,T.W. Kim2,D.H. Kim2,H.S. Lee3,H.L. Park3,笹山和俊1,中西奏太1,竹内 淳1
  •  休憩 15:45〜16:00
  • 10「講演奨励賞受賞記念講演」(15分)
    MOVPE選択成長法と再成長によるシリコン基板上のGaAs/InAs/GaAsナノワイヤ量子井戸の作製
    北大院情報科学および量子集積センター1,JSTさきがけ2 冨岡克広1,2,本久順一1,原真二郎1,比留間健之1,福井孝志1
  • 11陽極酸化によるサイドゲート室温動作単電子トランジスタの作製東北大・通研 水野徳夫,木村昭太,木村康男,庭野道夫
  • 12ALD絶縁膜を用いたInAs/AlGaSbヘテロ構造のゲート制御NTT物性科学基礎研 鈴木恭一,小野満恒二,原田裕一,前田文彦,山口 徹,村木康二
  • 13キャップ層のドナー濃度によるIII−V族半導体表面フェルミレベルピニング制御豊田工大 賀数広海,山田郁彦,神谷 格
  • 14ヘテロ構造障壁を持つpIn形ダイオードのC-V及びI-V特性豊田工大 坂下大樹,大森雅登,榊 裕之
  • 15近接場光ネットワーク:積層量子ドットにおける光励起輸送の効率向上NICT1,東大工2,イルミナウ工科大3,山梨大4 成瀬 誠1,2,Erich Runge3,小林 潔4,大津元一2
  • 16希薄磁性半導体ZnMnSeと積層したCdSe自己組織化量子ドットにおける界面原子構造北大院情報科学1,JST-CREST2,材料科学技術振興財団3 村山明宏1,2,田村宣裕1,山崎達誌郎1,木場隆之1,2,澁谷一成3,荒木達郎3
  • 17石英やGaAs基板上に作製したPbS量子ドット膜の蛍光計測豊田工大 呂  威,山田郁彦,神谷 格

14.2 超薄膜・量子ナノ構造

9月16日 9:00〜18:45  会場:教育-NC

16a-NC - 1〜13

  • 1シリコン/弗化物共鳴トンネル構造を用いた抵抗スイッチング素子の低電圧化東工大院総理工 仲正路友康,土屋和哉,渡辺正裕
  • 2Ge基板上での高温成長による弗化物RTDの欠陥制御東工大総理工 高橋慶太,林 優士,萱沼良介,齊藤 昇,筒井一生
  • 3NiSi2バッファ層を用いたSi基板上弗化物へテロ構造の成長東工大総理工 齊藤 昇,吉住友樹,福岡佑二,萱沼良介,林 優士,高橋慶太,筒井一生
  • 4歪超格子障壁の挿入に起因するSi1-xGex/Si歪量子井戸の特異な励起強度依存性東大院総合(駒場) 寺田陽祐,田名網宣成,安武裕輔,深津 晋
  • 5高分解能角度分解光電子分光によるGe(110)表面近傍の電子状態奈良先端科学技術大学院大1,半導体理工学研究センター(STARC)2 ○(M2)松岡弘憲1,武田さくら1,森田 誠1,田畑裕貴1,橋本美絵1,服部 賢1,大門 寛1,吉丸正樹2
  • 6GaAs/AlAs多層膜結合共振器における非線形分極構造の制御徳島大院フロンティア 北田貴弘,田中文也,滝本隼主,森田 健,井須俊郎
  • 7非対称なGaAs/AlAs 多層膜結合共振器の作製とその光学特性徳島大院フロンティア 田中文也,滝本隼主,森田 健,北田貴弘,井須俊郎
  •  休憩 10:45〜11:00
  • 8GaAs薄膜におけるレーザースペクトル幅制御による励起子応答制御神戸大院1,徳大院2 大田翔平1,小島 磨1,喜多 隆1,井須俊郎2
  • 9微傾斜GaAs(110)基板上量子井戸における電子スピン緩和時間(II)奈良先端大物質 池田和浩,黄 晋二,河口仁司
  • 10量子井戸中の局在励起子に対する量子閉じ込め効果がゼーマン分裂へ与える影響甲南大院自然1,静岡大若手グローバル2 志智 亘1,伊藤 哲2,宮原美保1,市田正夫1,安藤弘明1
  • 11非対称3重量子井戸超格子における電流発振大阪市大工1,情報通信研究機構2 細田 誠1,西井雄一1,赤羽浩一2
  • 12Reflection effect of SAW single electron pump東京農工大1,英国物理学研究所2 ○(PC)掛本博文1,片岡真哉2
  • 13半導体量子井戸における輸送中スピン歳差運動の表面弾性波による制御NTT物性基礎研1,東北大工2 眞田治樹1,後藤秀樹1,好田 誠2,新田淳作2,小野満恒二1,寒川哲臣1
  •  昼食 12:30〜13:30

16p-NC - 1〜19

  • 1「半導体B分科内招待講演(30分)」
    GaAs/AlAs多重量子井戸中のコヒーレントフォノンによる高強度テラヘルツ波発生に関する研究
    阪府大院理 溝口幸司
  • 2AFM陽極酸化法を用いた単一および結合InAs量子ドットの位置・形状制御東大生研1,ナノ量子機構2,CREST-JST3 車 圭晩1,柴田憲治1,堀内 功1,平川一彦1,2,3
  • 3サブナノ層間分離技術による積層InAs/InGaAs量子ドット光源情報通研1,青学大2 山本直克1,赤羽浩一1,川西哲也1,外林秀之1,2
  • 4多重積層量子ドットの発光波長制御とレーザ応用情通機構 赤羽浩一,山本直克,川西哲也
  • 5積層量子ドットにおける偏光特性に対する電子的結合効果神戸大院工1,情通機構2 田中秀治1,小島 磨1,喜多 隆1,赤羽浩一2
  • 6多層積層量子ドットにおける高次励起子準位励起効果神戸大院工1,情通機構2 小島 磨1,飛田直樹1,喜多 隆1,赤羽浩一2
  • 7量子ドット中のトリオン励起状態のスピン緩和過程に対するRTAの影響NECグリーン研1,東大ナノ量子機構2,東大生研3 五十嵐悠一1,2,白根昌之1,2,太田泰友2,3,野村政宏2,熊谷直人2,大河内俊介2,桐原明宏1,2,石田悟己2,3,岩本 敏2,3,萬 伸一1,2,荒川泰彦2,3
  • 8荷電量子ドットからの偏光相関光子対発生NECグリーン研1,東大ナノ量子機構2,東大生研3 白根昌之1,2,五十嵐悠一1,2,太田泰友2,3,野村政宏2,熊谷直人2,大河内俊介2,桐原明宏1,2,石田悟己2,3,岩本 敏2,3,萬 伸一1,2,荒川泰彦2,3
  • 9量子ドットにおける最低次励起子・励起子分子の非線形PL特性NTT物性研 後藤秀樹,眞田治樹,鎌田英彦,山口浩司,寒川哲臣
  •  休憩 16:00〜16:15
  • 10単一励起子ー光子強結合状態の励起条件依存性 IINTT物性基礎研1,クイーンズ大2,弘前大3 俵 毅彦1,鎌田英彦1,Stephen Hughes2,岡本 浩3,納富雅也1,後藤秀樹1,寒川哲臣1
  • 11フォトンエコー法による量子ドット集合体への光コヒーレンスの転写・再生慶應大理工1,JSTさきがけ2,情通機構3,上智大理工4 早瀬潤子1,2,3,光武 慧3,4,赤羽浩一3,山本直克3,江馬一弘4,佐々木雅英3
  • 12単一量子ドットでのハンル測定:励起子スピンダイナミクスからの考察北大院工 ○(D)鍜治怜奈,足立 智,武藤俊一
  • 13金属埋め込み量子ドットによる強度飽和領域における高純度単一光子発生北大電子研1,JST CREST2 中島秀朗1,江国晋吾1,熊野英和1,2,飯島仁史1,井田惣太郎1,笹倉弘理1,2,末宗幾夫1,2
  • 14InAs/InP 量子ドットを用いた準共鳴励起単一光子発生器の光学特性解析東大ナノ量子機構1,東大生研2,上智大3,物材機構4,富士通研5 宮澤俊之1,竹本一矢1,中岡俊裕1,3,斉藤敏夫1,2,佐久間芳樹4,横山直樹1,5,荒川泰彦1,2
  • 15臨界膜厚近傍におけるInAs/InP 濡れ層の構造評価慶大院理工1,物材機構2 ○(M2)唐仁原裕樹1,久保田良輔1,土屋直樹1,佐久間芳樹2,斎木敏治1
  • 16GaSb量子ドット入りGaAsFET素子の光照射効果:過渡応答豊田工大1,東大生研2 ○(M1)伊賀健一郎1,山附太香史2,大森雅登1,秋山芳広1,榊 裕之1,2
  • 17自己形成InGaAsドット列における異方的な持続性光電流豊田工大1,物材機構2,東大生研3 秋山芳広1,2,3,川津琢也2,3,野田武司2,榊 裕之1,2,3
  • 18多積層In0.4Ga0.6As量子ドット太陽電池におけるIn0.2Ga0.8Asキャップ層の効果産業技術総合研究所1,東京都市大院2 ○(M2)沼上 理1,2,菅谷武芳1,古江重紀1,森 雅彦1,小森和弘1,仁木 栄1,岡野好伸2
  • 19中間バンド型量子ドット太陽電池のデバイスシミュレーション(II)東大院工1,東大先端研2,筑波大3 吉田勝尚1,2,岡田至崇1,2,佐野伸行3