7. ビーム応用

15p-ZL - 1〜11


• 1含浸型イオン液体イオン源の試作京大院工 ^○植田　亨，竹内光明，龍頭啓充，高岡義寛
• 2大電流かつ極低エネルギーイオンビームの生成およびビーム発散の評価京大・院工¹，日新イオン機器²，中部大^{3 ○}田口周平¹，後藤康仁¹，辻　博司¹，酒井滋樹²，石川順三³
• 3電界誘起酸素エッチング法による電界電離型イオン源エミッタの作製三重大院工¹，三重大極限ナノエレセ²，エスアイアイ・ナノテクノロジー^{3 ○}杉浦康史¹，劉　華栄²，杉山安彦^1,2,3，永井滋一^1,2，岩田達夫²，梶原和夫^1,2，畑　浩一^1,2
• 4集束イオンビームによる自己整合型四極子収差補正レンズ系の特性評価エスアイアイ・ナノテク¹，産総研²，三重大院工³，三重大極限ナノエレセ^{4 ○}杉山安彦^1,3,4，岡山重夫²，畑　浩一^3,4
• 5ガラスキャピラリーによるイオンビーム収束と通過特製東理大¹，理研^{2 ○（M2）}宮本　聡^1,2，小林知洋²，小島隆夫²，池田時浩²，Walter Meissl²，山崎泰規²，趙　新為¹
• 6ガラスキャピラリー集束イオンビームによる表面改質理研¹，東理大理^{2 ○}小林知洋¹，宮本　聡^1,2，池田時浩¹，小島隆夫¹，山崎泰規¹
•  休憩　15:30〜15:45
• 7軽元素分析のためのTOF-ERDA測定系の開発若狭湾エネ研¹，豊田中研^{2 ○}安田啓介¹，石神龍哉¹¹，日比章五²
• 8TEAを用いたTOF-ERDAによる極浅原子分析法の開発研究阪大基 ^○堀内英完，阿保　智，若家冨士男，高井幹夫
• 9高真空中エレクトロスプレーを用いたイオン液体の帯電液滴ビーム特性産総研 ^○藤原幸雄，齋藤直昭，野中秀彦，中永泰介，一村信吾
• 10共鳴多光子イオン化スパッタ中性粒子質量分析法による半導体多層膜中Mgの深さ方向分析新日鐵先端研¹，パナソニック^{2 ○}西野宮卓¹，久保田直義¹，林　俊一¹，相良暁彦²，福本訓明²，森田弘洋²
• 11越境微粒子の形状とその組成工学院大¹，工学院大院^{2 ○（PC）}大石乾詞¹，和田仁志²，坂本哲夫¹

16a-ZL - 1〜11


• 1ArクラスターSIMSによる質量イメージング装置の開発京大工¹，JST-CREST^{2 ○}山本恭千¹，市木和弥¹，二宮　啓^1,2，瀬木利夫^1,2，青木学聡^1,2，松尾二郎^1,2
• 2高輝度Arクラスターイオンビーム装置の開発II京大工¹，JST-CREST^{2 ○（M2）}山野邉貴文¹，山本恭千¹，市木和弥¹，二宮　啓^1,2，瀬木利夫^1,2，青木学聡^1,2，松尾二郎^1,2
• 3複合クラスター生成技術の開発京大院工¹，JST-CREST^{2 ○}瀬木利夫^1,2，青木学聡^1,2，松尾二郎^1,2
• 4大電流密度ガスクラスターイオンビームのサイズ選別照射VI京大工¹，JST-CREST^{2 ○}市木和弥¹，二宮　啓^1,2，瀬木利夫^1,2，青木学総^1,2，松尾二郎^1,2
• 5エタノールクラスターイオンビームのガラス表面への照射効果京大　光・電子理工学セ ^○（M1）糸崎俊介，龍頭啓充，竹内光明，高岡義寛
•  休憩　11:15〜11:30
• 6ガスクラスターイオンビームによるアモルファスカーボン平坦化効果の真空度およびガス種依存性兵庫県立大 ^○内藤浩喜，豊田紀章，山田　公
• 7水クラスターイオンビームのアクリル基板への照射効果京大光・電子理工学セ ^○（M1）市橋　岳，龍頭啓充，竹内光明，高岡義寛
• 8Arクラスターイオンビームを用いたSi(111)表面清浄化岡山理大理¹，道工大工^{2 ○（M2）}中川駿一郎¹，斉藤　博¹，大石正和¹，今井和明²
• 9シリコン基板に対するエタノールクラスターイオン照射効果の基板温度依存性京大光・電子理工学セ ^○（M2）向井　寛，龍頭啓充，竹内光明，高岡義寛
• 10多原子分子イオンビームによるシリコン基板への炭素注入京大院工 ^○竹内光明，龍頭啓充，高岡義寛
• 11透過電子顕微鏡法によるMnイオン注入Siの局所構造解析甲南大理工¹，阪大産研^{2 ○}内藤宗幸¹，中西　亮¹，町田信也¹，重松利彦¹，石丸　学²
•  昼食　13:00〜14:00

16p-ZL - 1〜11

• 1有機材料へのGCIB照射におけるクラスターサイズ依存性のXPSによる評価兵庫県立大 ^○中桐基裕，古屋隆司，豊田紀章，山田　公
• 2炭素負イオン注入によるパターン化シリコーンラバー上での間葉系幹細胞からの骨芽細胞配列京大光・電子理工センター¹，京大院工²，中部大工^{3 ○（PC）}Piyanuch Sommani¹，辻　博司²，佐藤弘子²，後藤康仁²，石川順三³，高岡義寛¹
• 3高分子材料へのイオンビーム照射法を用いた新規3次元生体適合材料への応用明大院理工¹，理研^{2 ○}森崎真也¹，真野大輔¹，小椋厚志¹，田中俊行²，水谷恭一郎²，鈴木嘉昭²，櫻木一志²
• 4Ｌラクチド・ε−カプロラクトン共重合フィルムへのイオンビーム照射による生体反応性制御明大理工院¹，理研²，東京女子医大^{3 ○（M2）}眞野大輔¹，森崎真也¹，小椋厚志¹，田中俊行²，水谷恭一郎²，桜木一志²，鈴木嘉昭²，氏家　弘³
• 5イオン照射法による透明高分子膜表面へのナノ構造の室温合成名工大院工 ^○佐藤俊作，Pradip Ghosh，川岸正之，中森弘明，林　　灯，林　靖彦，種村眞幸
• 6集束プロトンビーム照射によるダイヤモンドの構造変化芝工大工¹，産総研^{2 ○}原島勇気¹，金子智紀¹，西川宏之¹，加藤宙光²，山崎　聡²
•  休憩　15:30〜15:45
• 7イオンビーム照射によるAgナノ粒子の光学特性変化京都工繊大¹，原子力機構^{2 ○}川口和弘¹，高廣克己¹，山本春也²，箱田照幸²，吉川正人²
• 8熱酸化シリコン薄膜へのゲルマニウム負イオン斜め注入における注入原子の深さ分布とPL発光京大院工¹，中部大工^{2 ○}木下翔平¹，辻　博司¹，洗　暢俊¹，服部真史¹，後藤康仁¹，石川順三²
• 9イオン注入熱酸化法による酸化バナジウムナノ粒子の形成物材機構 ^○雨倉　宏，河野健一郎，岸本直樹
• 10中エネルギーNe⁺照射による高感度水素検出立命館大理工 ^○光原　圭，櫛田芳裕，奥村英樹，松本悠志，城戸義明
• 11イオンビーム刺激水素イオン脱離理研¹，阪大院工^{2 ○}戸田新之輔^1,2，小林　峰¹¹，桑原裕司^1,2