7. ビーム応用

15a-K - 1〜12


• 1高解像度ネガ型レジストCalixAreneを用いたEBリソグラフィーによるナノインプリントモールドの作製兵県大¹，JST-CREST²，JSPS³，トクヤマ^{4 ○（M1C）}大本慎也^1,2，岡田　真^1,2,3，姜　有志^1,2，神田一浩^1,2，春山雄一^1,2，東野誠司⁴，松井真二^1,2
• 2エッジリソグラフィによる高アスペクト比ナノモールドの作製大阪府大工¹，JST CREST^{2 ○}阪本隼志^1,2，西野朋季^1,2，川田博昭^1,2，安田雅昭^1,2，平井義彦^1,2
• 3キャスティングによる有機機能材料のナノ加工大府大院工 ^○穂藤規人，坂本隼志，西野朋季，川田博昭，平井義彦
• 4Si含有UV硬化レジストパターンをマスクとして用いた二層構造の作製兵庫県立大¹，JST-CREST²，JSPS^{3 ○}山下大輔^1,2，岡田　真^1,2,3，姜　有志^1,2，神田一浩^1,2，春山雄一^1,2，松井真二^1,2
• 5PDMSモールドを用いたスピンコートHSQ膜への低圧室温ナノインプリント兵庫県立大¹，CREST-JST²，JSPS^{3 ○（M2）}姜　有志^1,2，岡田　真^1,2,3，神田一浩^1,2，春山雄一^1,2，松井真二^1,2
• 6側鎖結晶性ポリマーを用いたナノインプリントニッタ¹，兵庫県立大院²，山形大³，山形大院⁴，JST-CREST⁵，JSPS^{6 ○}仲野真一¹，山下幸志¹，河原伸一郎¹，岡田　真^2,5,6，井上弘樹³，八巻龍一³，松葉　豪⁴，松井真二^2,5
•  休憩　10:30〜10:45
• 7ナノインプリントリソグラフィを用いたDFBレーザの回折格子パターンの周期再現性評価住友電工 ^○辻　幸洋，柳沢昌輝，吉永弘幸，井上尚子，野間口俊夫
• 8高精細6インチ原版の作製と卓上型ローラー転写装置による評価凸版印刷¹，エンジニアリング・システム²，早大^{3 ○}相馬宗尚¹，矢澤紘子¹，鈴木　学¹，筒井　豊²，李　凌義³，庄子習一³，水野　潤³
• 9熱インプリントによる製織ガイド構造の形成技術研究組合 BEANS研究所¹，産総研^{2 ○}銘苅春隆^1,2，小林　健^1,2，伊藤寿浩^1,2
• 10熱インプリントによるSOG材料の二回転写パターンの作製アルバック ^○北田典央，中山高博
• 11ナノインプリントプロセスによる新生特性を有する反射防止膜の作製首都大都市環境¹，神奈川科学技術アカデミー^{2 ○}柳下　崇^1,2，西尾和之^1,2，益田秀樹^1,2
• 12ポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセスにもとづくSi反射防止構造の形成首都大都市環境¹，神奈川科学技術アカデミー^{2 ○}成山哲平¹，柳下　崇^1,2，西尾和之^1,2，益田秀樹^1,2
•  昼食　12:15〜13:30

15p-K - 1〜16

• 1「講演奨励賞受賞記念講演」（15分）
  UV-NIL用蛍光レジストによるモールド表面への樹脂付着挙動の追跡東北大多元研¹，JST-CREST²，東洋合成工業³，兵庫県立大高度研^{4 ○}小林　敬^1,2，久保祥一^1,2，大幸武司³，松井真二^2,4，中川　勝^1,2
• 2走査型プローブ顕微鏡による離型膜とUVナノインプリントレジストとの付着力評価兵庫県立大院理¹，SIIナノテクノロジー²，兵庫県立大院工³，東北大院多元研⁴，JST-CREST⁵，JSPS^{6 ○}岡田　真^1,5,6，岩佐真行²，春山雄一^1,5，神田一浩^1,5，倉本　圭³，中川　勝^4,5，松井真二^1,5
• 3接触角測定によるペンタフルオロプロパンガス雰囲気下における離型効果の評価兵庫県立大¹，AIST²，JST-CREST³，JSPS^{4 ○}知念美佳^1,3，岡田　真^1,3,4，春山雄一^1,3，神田一浩^1,3，廣島　洋^2,3，松井真二^1,3
• 4原子間力顕微鏡によるナノインプリント用離型層の劣化挙動評価京大院工¹，日立材料研^{2 ○}桑原孝介^1,2，宮内昭浩²，杉村博之¹
• 5ナノインプリント成形および離型に対する単分子膜処理の膜質の影響日本曹達 ^○熊澤和久，中本憲史，藤田佳孝，佐宗春男
• 6ベンゾフェノン基含有光反応性単分子膜による光硬化樹脂−Siウエハ界面の密着性の向上東北大多元研¹，JST-CREST²，大日本印刷³，兵庫県大高度研^{4 ○}小林　敬^1,2，栗原正彰³，法元盛久³，松井真二^2,4，中川　勝^1,2
• 7界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィと電解金めっきによる金パターン形成と光反応性単分子膜による効果東北大多元研¹，日油^{2 ○}永瀬康一¹，大嶽知之²，姜　義哲²，久保祥一¹，中川　勝¹
• 8UVナノインプリントにおけるラジカル系及びカチオン系UV硬化性樹脂の評価兵庫県立大¹，ダイセル化学工業²，東洋合成工業³，大阪府立大⁴，JST-CREST⁵，JSPS^{6 ○}澤田陽平^1,5，岡田　真^1,5,6，三宅弘人²，大幸武司³，平井義彦^4,5，春山雄一^1,5，神田一浩^1,5，松井真二^1,5
•  休憩　15:30〜15:45
• 9UV-NILレジストの硬化特性評価II大阪府立大　院工¹，リソテックジャパン²，東洋合成工業³，JST-CREST^{4 ○}鈴木亮佑^1,4，堀場日明^1,4，関口　淳²，大幸武司³，川田博昭^1,4，平井義彦^1,4
• 10UVナノインプリントにおけるレジストモデリングとシミュレーション大阪府立大　院工¹，JST-CREST^{2 ○}堀場日明^1,2，鈴木亮佑^1,2，川田博昭^1,2，平井義彦^1,2
• 11ナノインプリント法におけるポリマー充填挙動の分子動力学解析(III)大阪府大院工¹，JST-CREST^{2 ○}多賀章博^1,2，荒木康誠^1,2，堀場日明^1,2，安田雅昭^1,2，川田博昭^1,2，平井義彦^1,2
• 12WLF則の定数がガラスインプリント解析に与える影響神奈川県産技セ¹，信大工²，産総研^{3 ○}安井　学¹，荒井大政²，高橋正春³，伊藤寛明²，金子　智¹，平林康男¹，前田龍太郎³
• 13熱インプリントにおける基板変形の影響大阪府大 ^○川田博昭，藤川仙大，渡辺雄太，安田雅昭，平井義彦
• 14熱ナノインプリント法による0.2nm原子ステップ超平坦ガラス基板の作製と評価東工大物創¹，協同インターナショナル²，並木精密宝石³，東工大・弁理士^{4 ○（M1）}宮宅ゆみ子¹，秋田泰志¹，大井秀雄²，三田正弘²，砂川和彦³，吉本　護^1,4
• 15ソフトナノインプリントリソグラフィにおける転写精度日立　材料研¹，日立ハイテク　ファイン事^{2 ○}石井聡之¹，荻野雅彦¹，志澤礼健²，森　恭一²，宮内昭浩¹
• 16ペンタフルオロプロパンを利用する光ナノインプリントによるsub-100 nmのパターン形成産総研¹，JST-CREST^{2 ○}廣島　洋^1,2，王　　清^1,2，尹　成圓^1,2