7. ビーム応用
7.3 リソグラフィ
9月14日 10:00〜18:00 会場：薬学-ZA
14a-ZA - 1〜11
- 1集束プロトンビーム照射によるポリ乳酸の微細加工芝工大 ○竹内 均，小池義和，小倉智裕，萩原央紀，西川宏之，田邊裕介，原島勇気
- 2プロトンビーム描画を用いた強誘電体薄膜形成芝浦工大工 ○山口正樹，西川宏之
- 3環状オレフィン系薄膜への集束プロトンビームによる微細加工芝工大工1，丸善石化2 ○金子智紀1，西川宏之1，三田孝仁2，竹森利郁2
- 4集束プロトンビーム描画によるピラー形状の違いを用いた誘電泳動デバイスの作製と評価芝工大工1，原子力機構2，首都大東京3 ○椎根康晴1，坂下裕介1，西川宏之1，佐藤隆博2，石井保行2，神谷富裕2，神 孝之3，内田 諭3
- 5集束プロトンビームによるPMMAモールドを用いた誘電泳動用PDMSピラーの作製芝工大工1，原子力機構2，首都大東京3 ○坂下裕介1，椎根康晴1，西川宏之1，佐藤隆博2，石井保行2，神谷富裕2，内田 諭3
- 休憩 11:15〜11:30
- 6同軸対向プラズマフォーカスによる極端紫外プラズマ光源の高効率化東工大総合理工 1，IHI2 林 賢志1，○黒田雄介1，桑原 一2，中島充夫1，河村 徹1，堀岡一彦1
- 7EUVリソグラフィ用レーザ生成プラズマ光源の開発コマツ/EUVA平塚 ○長野 仁，阿部 保，小森 浩，渡辺幸雄，堀 司，石原孝信，柿崎弘司，住谷 明，半井宏明，藤本准一，溝口 計
- 8極微パタン構造計測のためのコヒーレント13nm高次高調波光源の開発 I理研 基幹研1，兵庫県立大2，JST CREST3 ○永田 豊1,3，原田哲夫2,3，木下博雄2,3，緑川克美1
- 9EUVL用TiO2-SiO2超低膨張ガラスのゼロCTE温度精密測定用超音波計測システムの開発東北大院工 櫛引淳一，○荒川元孝，大橋雄二，三野宮利男，丸山由子
- 10ピンチャック用リングシールのウエハ平坦度への影響防大 ○宇根篤暢，吉冨健一郎，餅田正秋
- 11両親媒性液晶型ブロック共重合体のグラフォエピタキシNTT物性基礎研1，東工大2 ○山口 徹1,2，山口浩司1，彌田智一2
- 昼食 13:00〜14:00
14p-ZA - 1〜15
- 1ナノリソグラフィ用新規フラーレン誘導体に基づいたネガ型化学増幅型分子レジスト阪大産研1，東京応化2 ○山本洋揮1，古澤孝弘1，田川精一1，安藤友之2，大森克実2，佐藤 充2，小野寺純一2
- 2Noria誘導体からなるEUV用分子レジストの評価半導体先端テクノロジーズ1，神奈川大工2 ○老泉博昭1，井谷俊郎1，工藤宏人2，新名伸光2，神宮司真由美2，西久保忠臣2
- 3EUVレジスト用酸発生剤の理論的研究阪大産研1，JST-CREST2 ○遠藤政孝1,2，田川精一1,2
- 4フォトレジスト溶解過程のその場観察半導体先端テクノロジーズ ○Juliusjoseph Santillan，井谷俊郎
- 5Xe2エキシマUV光によるレジスト除去金沢工大1，三菱化学2 ○河野昭彦1，後藤洋介1，丸岡岳志1，安形行広1，堀邊英夫1，水谷文一2
- 6EUV照射時のコンタミ膜厚のin-situ評価兵庫県立大 ○松田直大，渡邊健夫，原田哲夫，木下博雄
- 720 nm EUV干渉露光用透過型回折格子の製作兵庫県立大 ○（M1）山口裕也，福島靖之，多田将樹，松田直大，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄
- 8極端紫外線干渉露光によるレジストパタン形成兵県大 ○福島靖之，山口裕也，井口貴文，浦山拓郎，多田将樹，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄
- 休憩 16:00〜16:15
- 9EUV小領域露光装置（SFET）による16 nm L/Sパターン形成MIRAI-Selete ○田中雄介，松永健太郎，馬越俊幸，白井精一郎，俵山和雄，田中裕之
- 10コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるＣＤ評価兵庫県立大1，CREST-JST2 ○原田哲男1,2，中筋正人1,2，多田将樹1,2，渡邊健夫1,2，木下博雄1,2
- 11コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるEUVマスク上のプログラム欠陥観察結果兵庫県立大1，CREST-JST2 ○中筋正人1,2，原田哲男1,2，多田将樹1,2，渡邊健夫1,2，木下博雄1,2
- 12新開発の線材吸着保持具を用いた超微細螺線パターンの形成東京電機大院工 ○佐々木良佑，堀内敏行
- 13液晶マトリックス投影露光による厚膜レジストパターン形成プロセスの改善東京電機大院工 ○白鳥 翔，堀内敏行
- 14側壁制御を利用した球面状レジストパターンの形成東京電機大院工 ○小野博史，赤羽裕哉，堀内敏行
- 15内面リソグラフィを利用した細径軸受溝パターン形成技術の検討東京電機大院工 ○鈴木裕哉，鈴木 岳，堀内敏行
