6. 薄膜・表面

14a-NF - 1〜11


• 1PLD法による希土類ドープNiOエピタキシャル薄膜の低温成長と評価東工大物創¹，豊島製作所²，並木精密宝石³，弁理士^{4 ○}中井裕和¹，中曽根祐太¹，秋田泰志¹，土嶺信男²，小林　晋²，小山浩司³，吉本　護^1,4
• 2パルスレーザー堆積法により作製したフッ化物薄膜の光伝導特性評価と真空紫外線センサ応用名工大¹，トクヤマ²，東北大^{3 ○（M2）}田端一善¹，小野晋吾¹，市川　洋¹，河口範明^2,3，福田健太郎²，須山敏尚²，横田有為³，柳田健之³，吉川　彰³
• 3光学薄膜の環境試験による機械的特性への影響東海大院工 ^○（M2）杉山　光
• 4Cu-Ga 硫化物の水分解光カソードへの応用東大工 ^○守谷真琴，横山大輔，嶺岸　耕，久保田純，堂免一成
• 5凝集現象を用いた自己組織化金属薄膜の微細構造制御芝浦工大¹，東大生研²，韓国光云大^{3 ○（M1）}末永　亮¹，神子公男²，具　正裕³，野瀬健二²，弓野健太郎¹，光田好孝²，河　在根³
• 6窒化ホウ素炭素薄膜の作製とその光学的特性評価に関する研究阪大院工 ^○岩野祐太，木村千春，青木秀充
•  休憩　10:30〜10:45
• 7Methyl-BCN膜のCMP用薬液による膜質への影響阪大院工 ^○呂　志明，九鬼知博，西崎　誠，木村千春，青木秀充
• 8低温熱CVDを可能にする新規ケイ素材料の開発相模中研¹，東ソー^{2 ○}岩永宏平^1,2，多田賢一¹，千葉洋一²，山本俊樹^1,2，摩庭　篤²，肆矢忠寛^1,2，大島憲昭^1,2
• 9光MOD法によるペロブスカイト酸化物のガラス基板上一軸配向製膜産総研 ^○中島智彦，土屋哲男，熊谷俊弥
• 10二酸化バナジウム膜のヒステリシス制御横国大¹，産業技術総合研究所^{2 ○}西川雅美¹，中島智彦²，熊谷俊弥²，奥谷　猛¹，土屋哲男²
• 11P(VDF-TeFE)薄膜パターニングのためのドライエッチング特性阪大工 ^○寺島大樹，Jeong Jong-Hyeon，木村千春，青木秀充
•  昼食　12:00〜13:00

14p-NF - 1〜15

• 1「講演奨励賞受賞記念講演」（15分）
  スピントロニクスデバイス応用を目指したイルメナイト-ヘマタイト固溶体薄膜の合成京大院工 ^○的場智彦，藤田晃司，村井俊介，田中勝久
• 2ゾルゲル法による金ナノ粒子分散ZrO₂薄膜の作製と基礎物性評価東海大工 ^○外舘史善，横山英佐，若木守明
• 3ゾルゲル法によるAg ナノ粒子担持MgF₂膜の作製と基礎物性評価東海大工 ^○小野太樹，横山英佐，若木守明
• 4CeO₂膜に及ぼす環境試験の影響東海大工 ^○澤村文哉，室谷裕志
• 5環境制御型プローブ顕微鏡によるプローブと超薄膜との相互作用評価日立　材料研 ^○本棒享子，天羽美奈
• 6局所プラズモン共振器の光による発熱特性京大院・工 ^○名村今日子，鈴木基史，中嶋　薫，木村健二
• 7表面プラズモン共鳴現象を利用したチタニア表面での反応検出長岡技科大(工) ^○伊井清人，大塩茂夫，赤坂大樹，齋藤秀俊
• 8雰囲気感応性ワイドギャップpnヘテロ接合におけるUV光アシストVOC検知特性湘南工大¹，東大工・新領域²，東工大フロンティア³ 石倉　唯¹，森田祐介¹，^○中村吉伸²，高木英典²，藤津　悟³
•  休憩　15:00〜15:15
• 9ひずみセンサ用Cr-N薄膜の作製と電気的特性電磁研 ^○丹羽英二，佐々木祥弘，荒井賢一，増本　剛
• 10GaAs基板上に作製したCoPt/MgO多層薄膜の結晶成長と磁気特性東京工科大 ^○吉澤信彦，牧原健二，吉村徹三
• 11アモルファスIGZO,InO-ZnO薄膜の電気伝導・磁気抵抗情通機構¹，九大理²，出光先進研^{3 ○}牧瀬圭正¹，江崎翔平²，山田和正²，篠崎文重²，矢野公規³，中村浩昭³
• 12温湿度を一定に保持した環境下における調光ミラーデバイスの劣化機構産総研 ^○田嶌一樹，堀田裕美，山田保誠，岡田昌久，吉村和記
• 13弱酸性電解質水溶液を用いた相補型EC素子へのWO₃及びNiOOH薄膜の応用北見工業大 ^○細川　亮，鈴木敬弘，阿部良夫，川村みどり，佐々木克孝
• 14TiO2光学薄膜の環境試験による影響（２）東海大院工学研究科 ^○杉本洋己，室谷裕志，杉山　光
• 15真空蒸着Au-Pd-Sb膜のナノ付着破壊観察関東学院大工 ^○保坂哲也

15a-NF - 1〜11


• 1スパッタリング法により石英基板上に作製したCr-N薄膜の特性評価（II）大阪府立産技研¹，大阪府大21世紀科学研²，大阪府立大院工^{3 ○}佐藤和郎¹，筧　芳治¹，宇野真由美¹，櫻井芳昭¹，四谷　任²，石田武和³
• 2Grazed Al₂O₃基板に作製したTiO₂スパッタ薄膜の酸素ラジカル照射効果東理大 ^○（M2）本庄史幸，清水剛志，行川洋平，樋口　透
• 3セラミックス焼結体をターゲットに用いたRFスパッタリングによる Sc-doped TiO₂ 薄膜の作製と評価東理大・理 ^○冨山和哉，小林祐輔，樋口　透
• 4Mg₆₀C₄₀薄膜の電気特性に及ぼす水酸化処理条件依存性東海大開発工¹，東海大院開発工²，東海大院総合理工³，東海大工⁴ 吉田勇太¹，^○舞薗三紀彦²，千葉雅史¹，本城貴充³，久慈俊郎⁴
• 5r面サファイア基板上Cr₂O₃/(Cr_1-xAl_x)₂O₃積層膜の作製日大理工 ^○岩田展幸，米林　豊，土屋善人，秋間祐一郎，高瀬浩一，山本　寛
• 6パルスレーザー堆積法によるCaFeO₃, SrFeO₃薄膜の作製と評価日大理工 ^○岩田展幸，野呂田健人，根本拓哉，土屋善人，山本　寛
•  休憩　10:30〜10:45
• 7スパッタ法により作製したMg-Cu薄膜の特性の検討新潟大 ^○清水健児，丹内俊郎，松井博章，岩野春男，川上貴浩
• 8反応性スパッタ法によるＢＮ薄膜作製における不純物酸素混入の抑制兵庫県大高度研¹，兵庫県大院工^{2 ○}新部正人¹，前田佳恵¹，堀　聡子²，井上尚三²
• 9「薄膜・表面分科内招待講演」（15分）
  MOCVD法によるサファイア基板上への窒化亜鉛薄膜の成長(3)職業大 ^○柿下和彦，山中光樹，須田敏和
• 10H₂O導入MOCVD法によるCeO₂薄膜形成時の反応機構(2)　〜堆積メカニズム〜法大工¹，コメット^{2 ○}木樽智也¹，伊豆崇則¹，島田洋希¹，多田直裕¹，土屋　学¹，笠井隆光¹，下村崇広¹，鈴木　摂²，山本康博¹
• 11MOCVD成膜CeO₂のアニールによる構造変化と電気的特性への影響法政大工¹，コメット^{2 ○}島田洋希¹，伊豆崇則¹，木樽智也¹，多田直裕¹，土屋　学¹，笠井隆光¹，下村崇広¹，鈴木　摂²，山本康博¹
•  昼食　12:00〜13:00

15p-NF - 1〜15

• 1プラズマ照射によるPET/PVF直接接合の接着メカニズム三重大¹，河村産業² 郭　　翔¹，林　拓郎²，加藤将司²，與倉三好^1,2，上原賢一¹，^○遠藤民生¹
• 2プラズマ照射したメタ系アラミド紙とPPSフィルムの接着機構三重大工¹，河村産業^{2 ○}與倉三好^1,2，林　拓郎²，中西　悟²，郭　　翔¹，吉井竜也¹，松井正仁¹，中村祐一¹，遠藤民生¹
• 3モノメチルシランを用いた3C-SiC/Si ヘテロエピタキシャル成長九州工大工 ^○（B）救　佑輔，浦田憲一，池野　慎，中尾　基
• 4TiO₂/Al₂O₃/ZnO/Al₂O₃酸化物多層膜ミラーの原子層成長阪市院工¹，阪市工研² 村田雅樹¹，田中雄治¹，三條泰隆¹，^○熊谷　寛¹，品川　勉²，小林　中¹
• 5電子ビーム誘起方位選択エピタキシャル成長によるSi(100)基板上の複合面方位CeO₂層の形成 IIいわき明星大科学技術 ^○井上知泰，信田重成
• 6反応性フレーム溶射法により作製した金属酸化物膜に残存する有機成分長岡技大(工)¹，中部キレスト^{2 ○}大音雅宏¹，長谷部康博¹，中村　淳^1,2，大塩茂夫¹，赤坂大樹¹，齋藤秀俊¹
• 7反応性フレーム溶射法でY-EDTA･NH₄とY-EDTA･Hから作製したイットリア膜の比較長岡技大(工)¹，中部キレスト^{2 ○}長谷部康博¹，大音雅宏¹，中村　淳^1,2，大塩茂夫¹，赤坂大樹¹，齋藤秀俊¹
• 8大気開放型化学気相成長法によるデザートローズ状MgO構造体の作製長岡技科大(工)¹，エア・ウォーター^{2 ○}松田邦之¹，南　良平²，大塩茂夫¹，赤坂大樹¹，齋藤秀俊¹
•  休憩　15:00〜15:15
• 9コプラナー型沿面放電による常温・大気圧下での酸化物薄膜の形成静岡大工 鍋田圭吾，伊豫田正彦，鹿谷真博，柴山義浩，^○奥谷昌之
• 10希ガスを用いたSiクラスレート薄膜の作製岐阜高専¹，岐大工^{2 ○}羽渕仁恵¹，生田智隆¹，奥村竜二¹，飯田民夫¹，大橋史隆²，上野紘幸²，久米徹二²，伴　隆幸²，野々村修一²
• 11電解めっき形成Sn/Cu積層膜の界面合金層の評価関大工 井上史大，横山　巧，清水智弘，新宮原正三，^○西村清賢
• 12Sn seed法で作製したAgナノ粒子分散SiO2膜の加熱効果東芝研開セ ^○森　茂彦，丸山美保，山田　紘，山際正和，多田　宰，吉村玲子，堀田康之，信田直美，都鳥顕司
• 13CaTO₃ (T=Mn, Ru, Ti)系多層膜の作成とその物性青学大理工¹，NIMS²，KFT³，神戸大^{4 ○}瀬谷謙太¹，大西智弘¹，水崎壮一郎¹，小澤　忠²，野呂良彦³，佐俣博章⁴，永田勇二郎¹
• 14Mg含有アパタイト薄膜の作製とその生体親和性評価近大生物理工¹，大歯大^{2 ○}西川博昭¹，篠原　悠¹，橋本典也²，楠　正暢¹，速水　尚¹，本津茂樹¹
• 15誘電体層に寒天を用いたキャパシタの作製諏訪東京理科大 ^○王谷洋平，湯田真澄，木下美侑，福田幸夫