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「応用物理」2017年7月号 掲載次世代リソグラフィワークショップ(NGL2017)

  • 主催 応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会(分科会)
  • 協賛 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会,応用物理学会極限ナノ造形・構造物性研究会,日本学術振興会「荷電粒子ビームの工業への応用」第132委員会
  • 日時 2017年7月18日(火)〜19日(水)
  • 場所 東京工業大学 大岡山キャンパス 蔵前会館
  • 概要 初日に基調講演3件,技術セッションは光リソグラフィ&MPT,DSA&レジストとポスターセッション,二日めはNIL,EB・計測・マスク技術,EUVLを予定.
    詳細はホームページをご確認ください.
  • 参加費 主催・協賛団体会員,学生3,000円(6月23日までの申込),4,000円(上記以降の申込),
    一般12,000円(6月23日までの申込),15,000円(上記以降の申込)
  • 申込方法 本分科会webページにて,事前登録をお願いいたします.
    URL: http://annex.jsap.or.jp/NGL/
  • 問合せ先 事務局 相良好美
     〒335-0021 埼玉県戸田市新曽45
     Tel:090-5493-1147 Fax:048-443-4204
     e-mail: ZXF10453@nifty.com
    塩尻誠子(分科会担当)
     e-mail: membership@jsap.or.jp