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「応用物理」2017年6月号 掲載第39回ドライプロセス国際シンポジウム The 39th International Symposium on Dry Process (DPS2017)

  • 主催 第39回ドライプロセス国際シンポジウム組織委員会
  • 日時 2017年11月16日(木)〜17日(金)
  • 場所 東京工業大学 蔵前会館
    〒152-0033 目黒区大岡山2-12-1
    URL:http://www.somuka.titech.ac.jp/ttf/
  • 趣旨 プラズマ/ビーム・プロセス,プラズマ分析,表面反応,プロセス誘起ダメージなど,ドライプロセスの基礎から応用に係る最先端の研究成果について議論する長い歴史を持つ会議である.半導体デバイス,マイクロ・ナノエレクトロニクス,ディスプレイ,MEMS,バイオ応用,エネルギーデバイス,フォトニクスデバイスなどの分野の,プロセスの基礎と応用の議論を主な対象とし,さらに全く新しい分野におけるドライプロセス研究の成果発表も大いに歓迎する.
  • プログラム・内容
      Topics:
    • Etching Technologies
    • Manufacturing Technologies (AEC, APC, EES, FDC)
    • Surface Reaction and Damage
    • Plasma Diagnostics and Monitoring Systems
    • Modeling and Simulation
    • Plasma Generation (Equipment/Source)
    • Deposition Technologies (CVD/PVD)
    • Atomic Layer Processes (ALD/ALE)
    • Plasma Processes for 3D Device, FPD, Photovoltaic Devices
    • Plasma Processes for New Material Devices (MRAM, Power, Organic)
    • Plasma Processes for Biological and Medical application, MEMS
    • Atmospheric Pressure Plasma and Liquid Plasma
    • New Dry Process Concepts Arrangedsession:
      A1. Surface reactions for atomic layer controlled processes (ALE/ALD)
      A2. Etching technologies for latest devices having high-aspect-ratio of 50 or more (HAR)
  • 参加費 事前 (会員)30,000円 (非会員)35,000円 (学生)8,000円
    当日 (会員)35,000円 (非会員)40,000円 (学生)10,000円
  • 演題投稿締切日 2017年7月14日(金)
  • 問合せ・申込先 〒152-8550 東京都目黒区大岡山2-12-1-N1-10
    東京工業大学 科学技術創成研究院 先導原子力研究所 実行委員会 委員長 赤塚 洋
    e-mail:dps2017@officepolaris.co.jp
    URL:http://www.dry-process.org/2017/