応用物理学会フェロー表彰 第3回(2009年度)受賞者紹介

応用物理学会 第3回(2009年度)
フェロー表彰候補者選考委員会
委員長 後藤俊夫
応用物理学会では,会員の表彰制度として,業績賞や論文賞などに加え,新たに「本会における継続的な活動を通じて,応用物理学の発展に多大の貢献をした研究者を表彰する」フェロー表彰制度を設置し,第1回(2007年度)として86名,第2回(2008年度)として73名の方々をフェローとして表彰した.

第3回(2009年度)の本制度の会告は,和文機関誌「応用物理」第77巻,第9号に掲載され,締切までに,会員および推薦委員会から96名の候補者の推薦があった.選考委員会では2回の委員会を開催して,候補者の研究,技術開発,教育・公益活動における実績・業績を慎重に審査し,フェロー候補者として68名を選考した.選考結果は,2009年5月21日開催の理事会で承認された.

なお,第3回(2009年度)フェローの授賞式は,2009年9月8日から開催される2009年秋季応用物理学会学術講演会において行われる予定である.

フェロー表彰制度は設置後の立ち上げ期にあたる3年間が経過し,制度としてほぼ確立したと思われる.したがって,定常期に入る第4回(2010年度)以降は,本制度の趣旨に沿って,選考基準や選考人数の考え方をより厳密化しつつ,フェローに相応しい方々を選んでいく予定である.

最後に,今回もフェローに相応しい多くの候補者を推薦してくださった方々に感謝の意を表すとともに,今後,本制度が応用物理学会の権威ある表彰制度としてさらに発展していくことを期待している.


フェロー表彰受賞者と表彰タイトル (※所属は表彰時のものを掲載)

授賞式写真
  • 浅田 雅洋(東京工業大学 大学院総合理工学研究科 教授)
    半導体レーザーの動作理論とテラヘルツ電子デバイスの研究
  • 天野 浩(名城大学 理工学部 教授)
    窒化ガリウム青色発光ダイオードの先駆的研究
  • 安藤 正海(東京理科大学 総合研究機構,基礎工学研究科 教授)
    X線・中性子線光学系開発と医学利用
  • 石井 恂(元 金沢工業大学 工学部 教授)
    AlGaAs系半導体レーザーの長寿命化の研究と実用化
  • 伊藤 順司((独)産業技術総合研究所 理事・産業技術アーキテクト)
    真空マイクロエレクトロニクスの先駆的研究
  • 伊藤 隆司(東北大学 大学院工学研究科 教授)
    LSI製造における直接窒化プロセスの提案とその研究開発
  • 上杉 直(東北工業大学 工学部 教授 兼 新技術創造研究センター センター長)
    長波長帯光伝送路の実用化と非線形光学材料・素子の研究
  • 碓井 彰(古河機械金属(株) 研究開発本部 本部長)
    化合物半導体エピタキシャル成長技術の開発
  • 岡田 龍雄(九州大学 システム情報科学研究院 教授)
    高出力レーザーの研究とその理工学応用
  • 岡本 幸雄(東洋大学 理工学部 教授,理事)
    プラズマエレクトロニクスに関する先駆的研究と教育
  • 荻野 俊郎(横浜国立大学 大学院工学研究院 教授)
    表面構造制御によるナノ構造自己組織化のウエハースケール制御
  • 奥山 雅則(大阪大学 ナノサイエンスデザイン教育研究センター 特任教授 兼 大学院礎工学研究科 招へい教授)
    誘電体・強誘電体薄膜の作製と機能性デバイスへの応用
  • 尾嶋 正治(東京大学 大学院工学研究科 教授 兼 東京大学 放射光連携研究機構 機構長)
    放射光を用いた半導体および磁性体の表面・界面の研究
  • 尾鍋 研太郎(東京大学 大学院新領域創成科学研究科 教授)
    混晶半導体の熱力学および結晶成長と物性制御の研究
  • 小野 雄三(立命館大学 理工学部 教授)
    ホログラム光学素子の研究開発による回折光学分野の形成
  • 金山 敏彦((独)産業技術総合研究所 ナノ電子デバイス研究センター 研究センター長)
    ナノレベル半導体材料・プロセス・計測技術の研究
  • 蒲生 健次(大阪大学 名誉教授)
    イオンビームを用いた超微細プロセス技術の研究
  • 岸田 俊二((株)NEC特許技術情報センター 主席調査役)
    レーザー制御・プロセスによるLSIマスク・配線修正
  • 岸野 克巳(上智大学 理工学部 教授)
    ワイドギャップ半導体の結晶成長と可視光半導体レーザーの研究
  • 吉川 公麿(広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所 教授)
    半導体集積回路配線技術の研究開発
  • 工藤 一浩(千葉大学 大学院工学研究科 教授)
    新規有機トランジスタの研究と有機エレクトロニクス分野の開拓
  • 國尾 武光(日本電気(株) 執行役員 兼 中央研究所長)
    Si LSIの研究開発
  • 桑野 幸徳(太陽光発電技術研究組合 理事長)
    アモルファスシリコン太陽電池の研究と実用化
  • 古池 進(パナソニック(株) 代表取締役副社長)
    新規半導体デバイスおよび超LSIの開発と産業化
  • 河野 省三(東北大学 多元物質科学研究所 教授)
    固体表面の構造と電子状態を探る新しい電子分光法の開発
  • 小舘 香椎子(日本女子大学 名誉教授,学長特別補佐/科学技術振興機構 男女共同参画主監)
    回折光学・情報フォトニクスの研究と人材育成
  • 小林 喬郎(福井大学 大学院工学研究科 特命教授)
    高機能レーザーによる地球環境リモートセンシング技術の研究開発
  • 小林 哲郎(大阪大学 先端科学イノベーションセンター 特任教授)
    超高速光制御に関する先駆的研究
  • 小間 篤((独)科学技術振興機構 研究主監)
    固体表面・界面の制御と精密物性の解明
  • 佐野 雅敏(東京理科大学 工学部 教授)
    ワイドギャップ半導体の結晶成長と光物性に関する研究
  • 志村 努(東京大学 生産技術研究所 教授)
    実時間光記録材料研究とその光学システムヘの応用
  • 志村 史夫(静岡理工科大学 理工学部 教授)
    シリコン結晶工学および応用物理学の啓蒙・普及
  • 末宗 幾夫(北海道大学 電子科学研究所 教授)
    光半導体と光デバイス応用に関する先駆的研究
  • 高井 治(名古屋大学 大学院工学研究科 教授)
    機能性薄膜の創製と応用に関する研究
  • 高木 一正((独)科学技術振興機構 研究振興支援業務室 上席主任調査員)
    酸化物結晶材料の育成と素子化に関する研究
  • 高崎 金剛((社)応用物理学会 事務局次長)
    最先端半導体デバイス用プロセス技術の研究開発
  • 高須 秀視(ローム(株) LSI開発本部・LSI生産本部 取締役 LSI統括本部長 兼 研究開発担当)
    強誘電体を応用した半導体デバイスの実用化と産学交流の推進
  • 高橋 庸夫(北海道大学 大学院情報科学研究科 教授)
    シリコン単電子デバイスの研究
  • 竹田 美和(名古屋大学 大学院工学研究科 教授)
    化合物半導体へテロ構造の成長・評価とデバイス応用
  • 龍山 智栄((財)富山県新世紀産業機構 理事・中小企業支援センター長)
    半導体表面超構造とヘテロエピタキシャル成長の研究
  • 辻 伸二((株)日立製作所 中央研究所 主管研究員)
    光通信用半導体レーザー・受光デバイスの実用化
  • 寺尾 元康((株)日立コンピュータ機器 テクニカルアドバイザ)
    非晶質の物性研究と相変化を利用した各種デバイスの実用化
  • 永井 治男((社)日本物理学会 総務理事)
    化合物半導体混晶の研究と各種機能光デバイスの開発
  • 中野 義昭(東京大学 先端科学技術研究センター 教授)
    半導体集積フォトニクスの独創的研究
  • 永山 邦仁(九州大学 工学研究院 教授)
    光計測法の先駆的開発と衝撃波物性の研究
  • 半那 純一(東京工業大学 大学院理工学研究科 教授)
    大面積薄膜半導体材料の開発
  • 平本 俊郎(東京大学 生産技術研究所 教授)
    シリコンナノエレクトロニクスの研究
  • 平山 祥郎(東北大学 大学院理学研究科 教授)
    半導体量子構造と固体核スピンデバイスの研究開発
  • 藤山 寛(長崎大学 大学院生産科学研究科 教授)
    プラズマプロセスの大面積均一化と長軸化に関する先駆的研究
  • 冬木 隆(奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授)
    非熱平衡状態活用半導体プロセスの開発と電子デバイスヘの応用
  • 古屋 一仁(東京工業大学 大学院理工学研究科 教授)
    光ファイバー・半導体レーザーおよび電子波デバイスの基礎研究
  • 本宮 佳典((株) 東芝 研究開発センター 機械・システムラボラトリー 研究主幹)
    光ディスク高記録密度化の研究と実用化技術の開発
  • 前田 武志((独) 科学技術振興機構 イノベーション推進本部 知的財産戦略センター 特許主任調査員)
    記録型光ディスクの研究開発と実用化
  • 益 一哉(東京工業大学 統合研究院 教授)
    高速・高周波CMOS集積回路技術の高性能化に関する研究
  • 松本 俊(山梨大学 医学工学総合研究部 教授)
    II-VI族および多元化合物半導体の結晶工学に関する研究
  • 三浦 登((独) 物質・材料研究機構 若手国際研究センター(ICYS) センター長)
    超強磁場技術の開発とこれを用いた物性の開拓
  • 宮崎 誠一(広島大学 大学院先端物質科学研究科 教授)
    シリコンデバイスのための材料・プロセス開発
  • 室田 淳一(東北大学 電気通信研究所 教授)
    IV族半導体ヘテロCVD技術による原子制御プロセスの開発
  • 百瀬 寿代((株) 東芝 半導体研究開発センター 主務)
    高性能シリコンCMOSトランジスタの研究開発
  • 山口 一郎((株) 東洋精機製作所 技術顧問)
    ホログラフィーおよびスペックル応用計測法の研究開発
  • 山下 一郎(パナソニック(株) 先端技術研究所 主幹研究員)
    ナノテクノロジーを用いたタンパク質ナノ構造作製プロセス構築
  • 山下 洋八(東芝リサーチ・コンサルティング(株) フェロー)
    高性能圧電材料の研究と医用超音波診断装置用プローブヘの応用
  • 山田 智秋(元 日本電信電話(株) 基礎研究所 山田特別研究室長)
    新規結晶材料の開発に関する先駆的研究
  • 山本 幸佳((株)千代田テクノル 大洗研究所 所長)
    放射線と物質の相互作用における超短時間過渡特性の解明
  • 和田 修(神戸大学 大学院工学研究科 教授)
    光半導体デバイスの集積化・超高速化技術に関する先導的研究
  • 和田 一実(東京大学 大学院工学系研究科 教授)
    マテリアル工学を駆使したシリコンフォトニクスの研究
以上66名(五十音順)

第3回フェロー表彰候補者選考委員会委員
委員長:後藤俊夫
委員:石原 宏,伊藤良一,川久保達之,多田邦雄,松村正清,南 茂夫
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