| 1 Radiation·Plasma
Electronics |
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| Aug. 29 (Tue.) |
Aug. 30 (Wed.) |
Aug. 31 (Thu.) |
Sept. 1 (Fri.) |
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| 1.1 Radiation·Accelerator·Nuclear Reactor | フ-R 9:00〜12:00 | フ-R 9:00〜12:00 | フ-R 13:00〜17:45 | フ-R 9:00〜12:00 | フ-R 13:00〜15:00 | |||
| 1.2 Plasma Sources and Production Technologies | フ-Y 9:45〜12:30 | フ-Y 13:30〜17:15 | フ-S 9:00〜12:00 | フ-S 13:00〜15:00 | ||||
| 1.3 Diagnostics of Reactive Plasmas | フ-Q 9:30〜12:30 | フ-Q 13:30〜18:00 | ||||||
| 1.4 Plasma-Based Material Processing | フ-Q 9:00〜12:00 | フ-Q 13:00〜16:30 | ||||||
| 1.5 Nano-Technologies by Plasma Process | フ-P(poster with short presentation)10:30〜11:55 | |||||||
| 1.6 General Topics of Plasma Discharges | フ-Q 9:00〜12:00 | フ-Q 13:00〜14:45 | ||||||
| 1.7 Plasma Etching | フ-S 9:15〜12:00 | フ-S 13:00〜17:15 | ||||||